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Study of InGaAs/GaAs(001) buffers by combined growth of ALMBE-MBE in dynamic or stepped way

机译:通过动态或步进方式ALMBE-MBE的联合生长研究InGaAs / GaAs(001)缓冲液

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摘要

[ES] El estudio mediante Microscopía Electrónica de Transmisión (TEM) de capas InGaAs/GaAs(001) crecidas a 200ºC reflejó la existencia de\uduna red de dislocaciones de Lomer en el seno de la capa, muy prometedora para la efectiva relajación de la estructura con una disminución\uden la densidad de dislocaciones de propagación. Sin embargo, la capa presentaba un grado de relajación deficiente, por lo que resultaba\udmetaestable. Con el fin de aprovechar las ventajas que ofrecía dicha red de Lomer, se crecieron capas de desacoplo a 200ºC seguidas de una\udcapa a 400º o 500ºC (en forma dinámica y escalonada) para relajar completamente la estructura. No obstante, no se consiguió reproducir\udla mencionada red, observándose otra constituida por dislocaciones de 60º, situada en la zona de cambio entre las dos temperaturas de\udcrecimiento utilizadas. Las razones de este cambio se discuten en el trabajo.
机译:[EN]通过透射电子显微镜(TEM)研究的在200ºC下生长的InGaAs / GaAs(001)层反映了该层中存在Lomer位错网络,这对于有效地缓和该层非常有希望。的结构,传播位错的密度降低。但是,该层表现出较差的松弛度,使其变得亚稳。为了利用所述Lomer网络提供的优势,在200ºC上生长去耦层,然后在400º或500ºC上(动态地和交错地)生长覆层,以完全放松结构。然而,不可能观察到由60°位错构成的另一个网络,该网络位于所使用的两个生长温度之间的变化区域,因此无法复制。在工作中讨论了此更改的原因。

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